界面電子化学研究室の岩井愛助教が表面技術協会の進歩賞を受賞しました。

受賞日: 2025年2月28日
所属: 界面電子化学研究室
氏名: 岩井愛
受賞団体: 表面技術協会
賞名: 進歩賞
研究題目: 『研究塩基性電解質を用いたアルミニウムのアノード酸化に関する研究』
問い合わせ先: Tel 011-706-6736 / e-mail mana-iwai[a]eng.hokudai.ac.jp (岩井愛)